詳細摘要： 簡單介紹：產品信息實驗?研究用曝光裝置簡練設計的手動式整面單次曝光裝置。主要特長對應玻璃、Wafer、膠片等基材的實驗研究用手動整面單次曝光機。也適合小批量生產...
產品型號：所在地：更新時間：2023-07-26 在線留言PLC 工控機 嵌入式系統 人機界面 工業以太網 現場總線 變頻器 機器視覺 DCS PAC/PLMC SCADA 工業軟件 ICS信息安全 應用方案 無線通訊
塔瑪薩崎電子（蘇州）有限公司
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詳細摘要： 簡單介紹：產品信息實驗?研究用曝光裝置簡練設計的手動式整面單次曝光裝置。主要特長對應玻璃、Wafer、膠片等基材的實驗研究用手動整面單次曝光機。也適合小批量生產...
產品型號：所在地：更新時間：2023-07-26 在線留言
詳細摘要： 簡單介紹：產品信息實驗?研究用曝光裝置簡練設計的手動式整面單次曝光裝置。主要特長對應玻璃、Wafer、膠片等基材的實驗研究用手動整面單次曝光機。也適合小批量生產...
產品型號：所在地：更新時間：2023-07-25 在線留言
詳細摘要： 簡單介紹：主要特長采用獨自的平行調整機構,能夠高精度地設定掩膜與Wafer間的近接間隙。利用獨自的高速圖像處理技術,實現高精度的對位。利用圖像處理技術,使預對位...
產品型號：所在地：更新時間：2023-07-24 在線留言
詳細摘要： 簡單介紹：主要特長利用本公司開創的高速圖像處理技術, 實現了Wafer與掩膜的高精度對位。裝載機側和卸載機側*多可設置兩個籃具（選購項）。備有冷卻機構，可進行基...
產品型號：所在地：更新時間：2023-07-23 在線留言
詳細摘要： 簡單介紹：主要特長搭載本公司開創的鏡面光學系統爆光燈房（LAMP HOUSE）。從而實現了照射面內的均勻性以及高照度。采用本公司開創的同軸對位方式和高速圖像處理...
產品型號：所在地：更新時間：2023-07-22 在線留言
詳細摘要： 簡單介紹：主要特長能夠用于研究開發、試作、小批量生產等的直描曝光。能夠對應半導體、電子零件、優異PCB、高密度封裝件、MEMS、FPD等的曝光。由于在光刻工藝中...
產品型號：所在地：更新時間：2023-07-21 在線留言
詳細摘要： 簡單介紹：主要特長能夠用于研究開發、試作、小批量生產等的直描曝光。能夠對應半導體、電子零件、優異PCB、高密度封裝件、MEMS、FPD等的曝光。由于在光刻工藝中...
產品型號：所在地：更新時間：2023-07-20 在線留言
詳細摘要： 簡單介紹：產品信息實驗?研究用曝光裝置簡練設計的手動式整面單次曝光裝置。主要特長對應玻璃、Wafer、膠片等基材的實驗研究用手動整面單次曝光機。也適合小批量生產...
產品型號：所在地：更新時間：2023-07-17 在線留言
詳細摘要： 簡單介紹：主要特長采用獨自的鏡面?鏡頭光學系統,實現**均勻的照射。配備有可設定非接觸?面內均一間隙的間隙傳感器和對應多層曝光的顯微鏡、X?Y?θ軸對位臺的對位...
產品型號：所在地：更新時間：2023-07-16 在線留言
詳細摘要： 簡單介紹：主要特長除近接曝光外，還可對應接觸曝光(軟接觸和硬接觸)可對應幅度為500mm以上的大型膠片。采用獨自的光學系統,可選擇單面曝光或雙面曝光。還能進行一...
產品型號：所在地：更新時間：2023-07-15 在線留言您感興趣的產品PRODUCTS YOU ARE INTERESTED IN
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