涂膠顯影機是手動型勻膠顯影機,適合6''和8''的實驗室涂膠和顯影應用。涂膠顯影機適合不同類型的光刻化學試劑，通過*的腔體設計，提供均勻、精確和重復性高的涂膠結果。
涂膠顯影機可以完成尺寸為150mm或200mm的襯底涂覆功能。LabSpin涂膠機可以應用于非常廣泛的襯底材料，從碎片到150/200mm圓片或100x100mm/150x150mm方片。非常小的設備尺寸只需要很小的占地空間。
涂膠顯影機LabSpin設計了大量的選配件，適用于不同應用的需求。該涂膠系統可以裝配針筒或自動滴膠臂、邊緣涂覆、去厚膠邊、積水式顯影等等多種配置。
涂膠顯影機涂膠方法
在旋涂法中旋轉襯底被均勻地涂以溶液。 溶液，如光致抗蝕劑，通常分注在晶圓中心。 .然后加速度、最終轉速和各步驟的持續時間使得涂料的一部分經離心分離形成厚度均勻的膜。 除了工藝參數外，溶液或光致抗蝕劑的物理性質決定了膜的厚度。
涂膠顯影機顯影技術
在此工藝中，一定量的顯影劑被滴在曝光后的襯底上，并通過適度的旋轉分散開。 顯影液因其表面張力在晶圓上形成凸狀的液面（“Puddle”）。 當顯影時間結束后，通過提高旋轉速度甩干晶圓上的顯影液。 然后，用去離子水沖洗晶圓并同樣提高轉速甩干。 這種方法的優點是，只需使用少量顯影液，就能提供優異的顯影結果。

浸置式顯影法不得用于顯影液達到飽和時，例如當必須除去大量顯影后的光刻膠時或者凹凸圖形阻礙了更換顯影液時。 在這些情況下，需多步使用浸置式顯影或者使用噴涂式顯影 。