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OLYMPUS GX53倒置 金相顯微鏡

參考價(jià)面議
具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
  • 公司名稱南京諾旭微光電有限公司
  • 品       牌
  • 型       號
  • 所  在  地南京市
  • 廠商性質(zhì)其他
  • 更新時(shí)間2023/2/21 12:05:04
  • 訪問次數(shù)346
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南京諾旭微光電有限公司自2009 年6 月成立以來,10多年來專注于中光學(xué)儀器的研發(fā)、生產(chǎn)、銷售、 服務(wù)。公司有多年的光學(xué)市場銷售經(jīng)驗(yàn)和專業(yè)的服務(wù)團(tuán)隊(duì)。特別是在FPD平板顯示及半導(dǎo)體行業(yè)有著非常成 熟的配套解決方案,能為客戶提供合理、適用的顯微光學(xué)檢測方案。我公司同時(shí)擁有專業(yè)的光學(xué)設(shè)計(jì)師和經(jīng)驗(yàn)豐富的維修工程師,有著完善的售后服務(wù)體系、能為客戶提供更多快捷、方便、優(yōu)質(zhì)的服務(wù)。 公司主要產(chǎn)品有: 各種光學(xué)顯微鏡(測量顯微鏡、 金相顯微鏡、視頻顯微鏡、體視顯微鏡),數(shù)碼顯微鏡,2D影像測量儀,一鍵測量儀,三坐標(biāo)測量機(jī),3D共聚焦顯微鏡,掃描電鏡,高速相 機(jī),內(nèi)窺鏡,接觸角測量儀,等離子清洗設(shè)備,特殊顯微鏡改造,顯微鏡配件,視覺 CCD 鏡頭及LED 光源等相關(guān)儀器。主要服務(wù)于半導(dǎo)體、液晶面板、探針臺、MEMS、精密刀具、精密加工、金屬材料、 光纖通訊、生命科學(xué)、高校、研究所等行業(yè)所涉及的顯微檢查、測量、分析。 經(jīng)營理念:品質(zhì)、服務(wù)、價(jià)值、共贏
高速相機(jī)
GX53倒置金相顯微鏡快速分析較厚的大尺寸樣品材料專為鋼鐵、汽車、電子和其他制造行業(yè)設(shè)計(jì)的GX53倒置金相顯微鏡能夠提供傳統(tǒng)顯微鏡觀察方法難以獲得的清晰圖像
OLYMPUS GX53倒置 金相顯微鏡 產(chǎn)品信息

GX53倒置金相顯微鏡

快速分析較厚的大尺寸樣品材料

專為鋼鐵、汽車、電子和其他制造行業(yè)設(shè)計(jì)的GX53倒置金相顯微鏡能夠提供傳統(tǒng)顯微鏡觀察方法難以獲得的清晰圖像。
在配合奧林巴斯Stream圖像分析軟件使用情況下,該顯微鏡可讓從觀察到圖像分析及報(bào)告的整個(gè)檢測流程變得更加順暢。

檢測快捷,功能*

快速觀察、測量和分析金相組織。

*的分析工具
1. 采用組合觀察方法獲得出色圖像
2. 輕松生成全景圖像
3. 生成全聚焦圖像
4. 采集明亮區(qū)域和暗光區(qū)域 

針對材料學(xué)的優(yōu)化
1. 專為材料科學(xué)而設(shè)計(jì)的軟件
2. 符合行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)要求的金相分析 

人性化
即便新手操作員也能夠輕松完成樣品觀察、結(jié)果分析/報(bào)告創(chuàng)建。
1. 輕松恢復(fù)顯微鏡設(shè)置
2. 用戶指導(dǎo)讓上等分析變得更加簡單
3. 高效的報(bào)告創(chuàng)建 

*的成像技術(shù)
我們成熟可靠的光學(xué)器件和成像技術(shù)能夠提供清晰的圖像和可靠的檢測結(jié)果。
1. 可靠的光學(xué)性能:波前像差控制
2. 清晰的圖像:圖像陰影校正
3. 一致的色溫:高強(qiáng)度白光LED照明
4. **測量:自動校準(zhǔn) 

模塊化
根據(jù)您的應(yīng)用要求選擇所需的組件。
1. 打造專屬于您的系統(tǒng):利用各種選配組件獲得**定制的系統(tǒng) 

*的分析工具

GX53顯微鏡的各種觀察功能可獲得清晰銳利的圖像,讓您能夠?qū)悠愤M(jìn)行可靠的缺陷檢測。奧林巴斯Stream圖像分析軟件的新型照明技術(shù)和圖像采集方案可為您提供評估樣品和記錄研究結(jié)果的更多選擇。

從不可見到可見:MIX技術(shù)
MIX技術(shù)將暗場與另一種觀察方法(如明場或偏振)相結(jié)合,讓您能夠觀察傳統(tǒng)顯微鏡難以觀察的樣品。圓形LED照明器的定向暗場功能可在時(shí)間照射一個(gè)或多個(gè)象限,從而減少樣品光暈,更好地觀察表面紋理。


印刷電路板切片

                                                         明場              
                                                         襯底層和通孔不可見。

暗場                                                   
痕跡不可見。                    

MIX: 明場+暗場                           
所有組件均可清晰呈現(xiàn)。

                                                       明場
                                                       紋理無法觀察。

暗場象限
色彩信息被去除。

MIX: 明場+暗場象限
材料色彩和紋理均可觀察

輕松生成全景圖像: 即時(shí)MIA

通過多圖像拼接(MIA)功能, 您轉(zhuǎn)動手動載物臺上的XY旋鈕即可輕松完成圖像拼接—電動載物臺為選配。奧林巴斯Stream軟件采用模式識別生成全景圖像,特別適合用于檢查滲碳和金屬流動情況。

螺栓的金屬流動

                                                              使用XY旋鈕調(diào)節(jié)載物臺位置。                                                                                                                                      可觀察到金屬流動的全部狀況。

生成全聚焦圖像EFI
奧林巴斯Stream軟件的景深擴(kuò)展(EFI) 功能可采集高度超出景深范圍的樣品圖像。EFI可將這些圖像堆疊在一起生成單幅的樣品全聚焦圖像。即便分析表面不平坦的切片樣品時(shí),EFI也能夠創(chuàng)建全聚焦圖像。
EFI配合手動或電動Z軸聚焦裝置,可生成高度圖像,對結(jié)構(gòu)進(jìn)行可視化觀察。

樹脂零件

                                                             使用對焦手柄調(diào)整物鏡高度。                              EFI自動采集和堆疊多幅圖像,生成單幅的樣品全聚焦圖像。                                 生成全聚焦圖像。

利用HDR同時(shí)采集明亮區(qū)域和暗光區(qū)域
采用*圖像處理技術(shù)的高動態(tài)范圍(HDR)可在圖像內(nèi)調(diào)整亮度差異,從而減少眩光。其也有助于增強(qiáng)低對比度圖像的對比度。高動態(tài)范圍(HDR)功能可用于觀察電子組件的細(xì)微結(jié)構(gòu)并識別金屬晶界。

金板

                某些部位存在眩光。                                                                                       暗光區(qū)域和明亮區(qū)域利用HDR獲得清晰呈現(xiàn)。 

鉻擴(kuò)散涂層

                 對比度低且不清晰。                                                                                                      利用HDR增強(qiáng)對比度。 

應(yīng)用
采用不同觀察方法所獲得的效果示例。


經(jīng)過拋光的AlSi樣品(明場 / 暗場)

                       明場                                                                                                                         暗場  
明場:一種觀察直接照射樣品反射光的常見觀察方法。
暗場:可觀察樣品的散射或衍射光線,因此諸如微小劃痕或瑕疵等缺陷非常明顯。

球墨鑄鐵(明場 / DIC)

                             明場                                                                                                                   DIC觀察  
微分干涉相差顯微技術(shù)(DIC):一種將樣品高度以類似提高了對比度的3D圖像,呈現(xiàn)出浮雕效果的觀察技術(shù);其非常適用于觀察金相結(jié)構(gòu)和礦物等具有極其細(xì)微高度差的樣品。

鋁合金(明場/偏光)

                     明場                                                                                                                    偏光觀察  
偏光:一種能夠突出材料紋理和晶體狀態(tài)的觀察技術(shù),用于觀察諸如球墨鑄鐵的石墨生長類型等金相結(jié)構(gòu)和礦物。

電子組件(明場/ MIX觀察)

                     明場                                                                                                               MIX: 明場+暗場  
MIX觀察:將明場和暗場相結(jié)合,樣品的顏色和結(jié)構(gòu)均可觀察。
上面的MIX觀察圖像清晰再現(xiàn)了該組件的顏色和紋理以及粘合劑層的狀況。

 

 

 

 

GX53倒置顯微鏡規(guī)格

光學(xué)系統(tǒng) 光學(xué)系統(tǒng)

UIS2光學(xué)系統(tǒng)(無限遠(yuǎn)校正系統(tǒng))

顯微鏡鏡架

反射光照明

通過反射鏡單元進(jìn)行手動明場/暗場選擇 
帶有調(diào)中功能的手動視場光闌/孔徑光闌切換 
光源:白光LED(帶光強(qiáng)度控制器)/12 V,100瓦鹵素?zé)? 100瓦水銀燈/光導(dǎo) 
觀察模式:明場、暗場、微分干涉相襯(DIC)*1、簡易偏光 *1、MIX觀察(4個(gè)定向暗場)*2
* 1該觀察方法需要是用專用插片。*2 需要使用MIX觀察配置。

標(biāo)尺印記

所有端口與透過目鏡所見觀察位置的反向位置(上/下)

前端口輸出(選配) 

相機(jī)和DP系統(tǒng)(倒像, GX專用相機(jī)適配器) 

側(cè)端口輸出(選配) 

相機(jī), DP系統(tǒng)(正像) 

電氣系統(tǒng)

反射光照明 
用于反射光照明的內(nèi)置LED電源 
連續(xù)可變光強(qiáng)度控制盤 
輸入額定值5 V DC,2.5 A(交流適配器100-240 V,AC 0.4 A,50 Hz/60 Hz) 
透射光照明(需要可選的BX3M-PSLED電源) 
電壓式連續(xù)可變光強(qiáng)度控制盤 
輸入額定值5 V DC,2.5 A(交流適配器100-240 V,AC 0.4 A,50 Hz/60 Hz) 
外部接口(需要使用選配BX3M- CBFM控制盒) 
編碼物鏡轉(zhuǎn)換器連接器×1 
MIX插片(U-MIXR)連接器×1 
手控操作器(BX3M-HS)連接器×1 
手控操作器(U-HSEXP)連接器×1 
RS-232C連接器×1,USB 2.0連接器×1

聚焦

帶有滾輪導(dǎo)軌的齒輪齒條 
手動、粗調(diào)和精調(diào)同軸手柄; 對焦行程9毫米(2毫米在載物臺平面以上7毫米在載物臺行程以下) 
微調(diào)手柄每轉(zhuǎn)行程: 100微米 (最小刻度: 1微米) 
 粗調(diào)手柄每轉(zhuǎn)行程: 7毫米 
 配粗調(diào)焦扭矩調(diào)節(jié)環(huán) 
 配粗調(diào)焦上限止動銷

鏡筒

寬視場(FN 22)

倒置: 雙目鏡(U-BI90, U-BI90CT), 三目鏡(U-TR30H-2), 可傾斜雙目鏡 (U-TBI90) 

物鏡轉(zhuǎn)換器

明場孔: 4至7個(gè), 類型: 手動/編碼,對中: 啟用/禁用 
明場/暗場孔: 5至6個(gè), 類型: 手動/編碼,對中: 啟用/禁用

載物臺

GX右手載物臺(X/Y行程: 50 × 50毫米, 載荷5公斤) 
活動式右手柄載物臺, 左手短手柄載物臺(各自X/Y行程: 50×50毫米,載荷1公斤) 
滑動載物臺(載荷1公斤) 
一套水滴型和長孔型

重量

約25公斤 (顯微鏡架20公斤) 

環(huán)境

·室內(nèi)使用 
·環(huán)境溫度:5至40°C(45至100°F) 
·相對濕度:溫度31 °C (88 °F)以內(nèi)時(shí)80% (無冷凝) 
如若超出31 °C (88 °F), 34 °C (93 °F)時(shí)相對濕度線性下降到70%,37 °C (99 °F)時(shí)下降到60%,40 °C (104 °F)時(shí)下降到50% 
·污染等級:2(符合IEC60664-1要求) 
·安裝/過壓分類:II類(符合IEC60664-1要求) 
·電源電壓波動:±10 %

 

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