VAF-300金屬熔煉爐是一款小型的電弧熔煉爐,可在不破壞氣體保護氣氛的條件下翻轉合金錠進行多次熔煉,且同時制備多個樣品,是高等院校、科研院所制備難熔金屬及金屬碳化物試樣的理想設備。
VAF真空電弧熔煉爐 | 型號 | VAF-300 | |
熔煉溫度 | 3000度 | ||
銅坩堝 | 水冷銅坩堝有5個工位(也可定制其它數量的工位) 每個工位均為半徑是25mm的半球鍋(也可定制其它尺寸),熔煉量50g(按鐵液計算) 其中一個工位底部安裝有吸鑄裝置 | ||
真空吸鑄裝置 | 真空吸注裝置,可鑄造出直徑為5mm,長度65mm的金屬棒 通過對銅模抽氣,使熔融態的金屬迅速進入到銅模中,可得到縮孔較小的金屬棒 | ||
主要特點 | 1、前方、左邊安裝有觀察視窗,腔內后方安裝有LED照明燈,方便觀測起弧熔化狀態 2、真空室、銅坩堝、起弧電極都采用水冷冷卻方式 3、上下移動采用方向盤式設計,操作搖桿轉動靈活 4、為了保證在不破壞氣體保護氣氛的條件下翻轉合金錠進行多次熔煉,熔煉爐中采用了機械手翻轉機構 5、坩堝尺寸小且數量多,可以方便制作多個樣品,又可避免樣品間的相互污染 6、底部安裝吸鑄裝置,可鑄造出直徑是5mm的金屬棒
腔室門 觀察窗 照明LED燈 機械手 吸鑄裝置 | ||
真空腔室 | 水冷真空腔室的尺寸是Dia300X340 真空腔室上有一個直徑是200mm的門,便于送樣和取樣 爐門上有一個直徑是80mm的觀察窗,方便觀測起弧熔化狀態 腔體右側安裝機械手,方便翻轉合金錠 | ||
工作電流 | 500A | ||
電弧熔煉陰極裝置 | 引弧方式為高頻引弧 手動動升降 | ||
熔煉溫度 | 3000度 | ||
腔體真空度(擴散泵機組)(方案二) | < 5X10 -3Pa | ||
腔體真空度(分子泵機組) (方案一) | < 5X10 -4Pa | ||
腔體可充氣體類型 | 氦氣、氬氣 | ||
工作時需充氣體 | 金屬熔煉過程中需要高純Ar氣(5N)或5% H2 + 95% Ar | ||
熔煉溫度 | 3000度 (可熔各種難熔金屬) | ||
升壓率 | <4Pa/小時 | ||
鎢電極 | 直徑為10mm的鎢電極(電弧槍可通水冷卻),非自耗式鎢電弧針 電極與樣品的角度和距離可調節(調節距離為80mm) 每個工位可熔煉樣品量< 50 g,溫度可達3000℃ 下圖是用此電弧爐熔爐的30g鈦合金 | ||
欠壓保護(水壓) | 有 | ||
控制精度 | +/- 1~ 5 ℃(600度以上) | ||
真空腔體內是否水冷 | 是 | ||
冷水機(選配) | CW-6100AH | ||
真 空 機 組 | 機組輸入電壓 | 380V /220V | |
波紋管 | KF40X1000 | ||
真空擋板閥 | KF40 | ||
前級機械泵FX-32
| 功率 | 1.2KW | |
電壓 | 380V | ||
轉速 | 1450rpm | ||
進氣口徑 | KF40 | ||
前機泵抽氣速率(L/S) | 8 | ||
極限壓強 | 4X10 -2Pa | ||
大型高真空手動擋板閥 | 口徑 | DN100 | |
使用范圍 | 1×105Pa~1.3×10-4Pa(氟膠圈密封) 1×105Pa~1.3×10-6Pa(波紋管密封) | ||
閥門漏率(Pa.L/S) | 1.3×10-5Pa(氟膠圈密封) 1.3×10-7Pa(波紋管密封) | ||
復合真空計 | 型號 | ZDF | |
電源 | 220V 50Hz 45W | ||
控制精度 | ±1% | ||
測量范圍 | 10-5 -10 5 Pa | ||
分子泵機組
| 分子泵型號 | FF-100 | |
輸入電壓 | 220V | ||
分子泵進氣口法蘭 | DN100 | ||
分子泵抽氣速率L/S(對空氣) | 300 | ||
分子泵極限壓強(Pa) | 5×10-7 | ||
冷卻方式 | 水 冷 | ||
冷卻水壓(MPa) | 0.1-0.2 | ||
冷卻水溫度 | <25℃< p=""> | ||
水冷機 (選配) | 電源 | 220V 1.75Kw | |
揚程 | 20-37m | ||
額定流量 | 6-35L/min | ||
水箱容量 | 22L | ||
制冷量 | 5.5KW | ||
出入水口 | Rp1/2’’ | ||
外形尺寸 | 526*645*1100mm |